我公司于2010年9月17日向中華人民共和國國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局申報(bào)了5項(xiàng)實(shí)用新型專利，分別為真空多弧離子鍍膜機(jī)，電阻式真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)，真空磁控濺射鍍膜機(jī)，真空電子槍鍍膜機(jī)和真空磁控濺射多弧離子復(fù)合鍍膜機(jī)；以及1項(xiàng)發(fā)明專利真空磁控濺射多弧離子復(fù)合鍍膜機(jī)。發(fā)明專利真空磁控濺射多弧離子復(fù)合鍍膜機(jī)已于2011年1月26日進(jìn)入實(shí)質(zhì)審查階段。另5項(xiàng)實(shí)用新型專利國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局已于2010年12月29日下發(fā)授權(quán)實(shí)用新型專利權(quán)通知書，待我公司嚴(yán)格按照辦理登記手續(xù)通知書的規(guī)定辦理登記手續(xù)后，國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局于2011年4月13日作出授予實(shí)用新型專利權(quán)的決定，并且頒發(fā)了實(shí)用新型專利證書，同時(shí)予以登記和公告。