煙氣凈化處理設(shè)備產(chǎn)品有哪些優(yōu)勢?
適用范圍廣:凈化效率高,尤其適用于其它方法難以處理的多組分廢氣,如化工,醫(yī)藥等行業(yè),電子能量高,幾乎可以和所有的廢氣分子作用;運(yùn)行費用低;反應(yīng)快,設(shè)備啟動,停止十分迅速,隨用隨開。
高效靈活:高效捕集不同粒徑的油霧粒子,凈化效率高,從根本上解決了復(fù)雜的廢氣組成不能逐一凈化的難題,凈化單元可以靈活組合,根據(jù)不同的凈化處理量及凈化率要求,單元數(shù)量可作調(diào)整。
方便先進(jìn):凈化單元采用分體抽屜式結(jié)構(gòu),易于安裝,維護(hù),清洗特別方便,電源控制系統(tǒng)可自動調(diào)節(jié)電場強(qiáng)度,使凈化設(shè)備在長期運(yùn)行后仍保持較高的凈化率。
安全穩(wěn)定:安全系統(tǒng)設(shè)計周密,檢修門被打開,高壓電源即自動切斷;高壓電源精心設(shè)計成環(huán)氧樹脂嚴(yán)密封閉的單元體,使用安全可靠;采用了大型機(jī)所運(yùn)用的閃絡(luò)跟蹤技術(shù),可配備遠(yuǎn)程控制系統(tǒng),大大提高運(yùn)行運(yùn)行的安全系數(shù),電源控制系統(tǒng)具有過流過壓自動保護(hù)裝置,保證設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。
節(jié)能:使用壽命長,節(jié)能高效比傳統(tǒng)技術(shù)節(jié)能50%以上。
占地面積?。褐悄?/span>,能自動判斷工作運(yùn)行狀態(tài),并顯示相應(yīng)的工作指示燈。
噴漆廢氣處理設(shè)備(活性炭吸附)
一、噴漆廢氣處理設(shè)備概述
噴漆室常采用活性炭或活性炭纖維處理設(shè)備,但活性炭會飽和,需要蒸汽解析。采用雙罐,可以輪流使用,一個使用,一個脫附。由于活性炭阻力較大,需要壓頭較高的風(fēng)機(jī)。東莞市高達(dá)環(huán)??萍加邢薰舅兄崎_發(fā)的吸附法是利用活性炭對有機(jī)成分的吸附作用,使有害成分從氣體中分離出來是一種有效的工業(yè)廢氣處理手段。廢氣處理設(shè)備與其他方法相比具有去除效率高、凈化徹底、能耗低、工藝成熟等優(yōu)點。該活性炭吸附采用新型柱狀活性炭,該活性炭比表面積和孔隙率大,吸附能力強(qiáng),具有較好的機(jī)械強(qiáng)度、化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性,凈化效率高達(dá)95%。有機(jī)廢氣通過吸附器,與活性炭接觸,廢氣中的有機(jī)污染物被吸附在活性炭表面,從而從氣流中脫離出來,達(dá)到凈化后的效果。凈化后的氣體可直接排放。
二、噴漆廢氣處理設(shè)備適用領(lǐng)域
噴漆、涂裝工廠及產(chǎn)生苯類,脂類、酮類、機(jī)械、電氣設(shè)備、家電、汽車、船舶、家具等行業(yè)。噴漆原料--涂料等有機(jī)溶劑廢氣的工廠車間、家具廠、噴漆房等噴漆過程中產(chǎn)生的有機(jī)廢氣。
三、噴漆廢氣處理設(shè)備工作原理
廢氣經(jīng)新增動力引風(fēng)機(jī)送入吸收塔,吸收塔為圓柱塔體,塔內(nèi)設(shè)有二級旋流塔板、噴霧器、填料區(qū)三個部分,有機(jī)廢氣在塔內(nèi)與吸收劑充分接觸完成傳質(zhì),污染物質(zhì)由于化學(xué)作用生成新的穩(wěn)定的化學(xué)鍵,從而達(dá)到去除有機(jī)廢氣的目的。處理后廢氣中主要污染指標(biāo)去除率大于97%,達(dá)到了《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(DB44/27-2001)
四、噴漆廢氣處理設(shè)備優(yōu)勢
1.廢氣處理設(shè)備一次完成處理工作,無二次廢水污染
2.吸收效率高,凈化速度快,可同時達(dá)到除塵
3.重量輕,占地面積少
4. 設(shè)備制造、安裝周期短,維修方便。
5.造價低,設(shè)備投資少
6.節(jié)省能源,運(yùn)行費用低。
一、分類
吸收設(shè)備
吸收法采用低揮發(fā)或不揮發(fā)性溶劑對 VOCs進(jìn)行吸收,再利用VOCs和吸收劑物理性質(zhì)的差異進(jìn)行分離。
含VOCs的氣體自吸收塔底部進(jìn)入塔內(nèi),在上升過程中與來自塔頂?shù)奈談┠媪鹘佑|,凈化后的氣體由塔頂排出。吸收了 VOCs的吸收劑通過熱交換器后,進(jìn)入汽提塔頂部,在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經(jīng)過溶劑 冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔,被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化,其他情況下需要作相應(yīng)的工藝調(diào)整。
吸附設(shè)備
在用多孔性固體物質(zhì)處理流體混合物時,流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上,此現(xiàn)象稱為吸附。吸附處理廢氣時,吸附的對象是氣態(tài)污染物,氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質(zhì),多孔固體物質(zhì)稱為吸附劑。
固體表面吸附了吸附質(zhì)后,一部被吸附的吸附質(zhì)可從 吸附劑表面脫離,此現(xiàn)附。而當(dāng)吸附進(jìn)行一段時間后,由于表面吸附質(zhì)的濃集,使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求,此時需要采用一定的措施使 吸附劑上已吸附的吸附質(zhì)脫附,以協(xié)的吸附能力,這個過程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中,正是利用吸附一再生一再吸附的循環(huán)過程,達(dá)到除去廢氣中污染物質(zhì)并回收廢氣中有用組分。
有機(jī)廢氣的燃燒及催化凈化設(shè)備
燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒,大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當(dāng)處理含 氯和含 硫的有機(jī)化合物時,燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2,需要對燃燒后氣體進(jìn)一步處理。
工業(yè)有機(jī)廢氣的低溫等離子體的治理設(shè)備
等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體,其英文名稱是plasma,它是由美國科學(xué) muir,于1927年在研究低氣壓下汞蒸氣中放電現(xiàn)象時命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成,但電子和正離子的電荷數(shù)必須體表現(xiàn)出電中性,這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導(dǎo)電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同,因此又有人把它稱為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度,等離子體通??梢苑譃楦邷氐入x子體和低溫等離子體(包子體和冷等離子體)。其中高溫等離子體的 電離度接近1,各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學(xué)平衡狀態(tài),它主要應(yīng)用在受控?zé)岷朔磻?yīng)研究方面。而低溫等離子體則學(xué)非平衡狀態(tài),各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti),可達(dá)104K以上,而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300~500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。
截至2013年,對 低溫等離子體的作用機(jī)理研究認(rèn)為是粒子非彈性碰撞的結(jié)果。低溫等離富含電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子,其中高能電子與氣體分子(原子)發(fā)生撞,將能量轉(zhuǎn)換成基態(tài)分子(原子)的內(nèi)能,發(fā)生激發(fā)、 離解和電離等一系列過秸處于活化狀態(tài)。一方面打開了氣體分子鍵,生成一些單分子和固體微粒;另一力生. OH、 H2O2.等自由基和氧化性極強(qiáng)的 O3,在這一過程中高能電子起決定性作用,離子的熱運(yùn)動只有副作用。常壓下,氣體放電產(chǎn)生的高度非平衡等離子體中電子溫層氏度)遠(yuǎn)高于氣體溫度(室溫100℃左右)。在非平衡等離子體中可能發(fā)生各種類型的化學(xué)反應(yīng),主要決定于電子的平均能量、電子密度、氣體溫度、有害氣體分子濃度和≥氣體成分。這為一些需要很大活化能的反應(yīng)如大氣中難降解污染物的去除提供了另外也可以對低濃度、高流速、大風(fēng)量的含揮發(fā)性有機(jī)污染物和含硫類污染物等進(jìn)行處理。
常見的產(chǎn)生等離子體的方法是氣體放電,所謂氣體放電是指通過某種機(jī)制使一電子從氣體原子或分子中電離出來,形成的氣體媒質(zhì)稱為電離氣體,如果電離氣由外電場產(chǎn)生并形成傳導(dǎo)電流,這種現(xiàn)象稱為氣體放電。根據(jù)放電產(chǎn)生的機(jī)理、氣體的壓j源性質(zhì)以及電極的幾何形狀、氣體放電等離子體主要分為以下幾種形式:①輝光放電;③ 介質(zhì)阻擋放電;④射頻放電;⑤ 微波放電。無論哪一種形式產(chǎn)生的等離子體,都需要高壓放電。容易打火產(chǎn)生危險。由于對諸如氣態(tài)污染物的治理,一般要求在常壓下進(jìn)行。
5、光催化和生物凈化設(shè)備
光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。 光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機(jī)污染物完全氧化成無毒無害的產(chǎn)物,而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要幾百度的高溫。
從理論上講,只要 半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴,該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應(yīng)有突出優(yōu)點,具體研究中可根據(jù)需要選用,如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是最廣泛使用和研究的單一化合物 光催化劑。